第271章 动摇(第3页)

 许志远继续说道：“接下来的关键是光学投影系统，它的作用是将电路图形通过掩膜版投影到芯片的晶圆上。我们的光学系统使用了高精度的多组光学透镜，能够将电路图形缩小数倍，投影精度达到亚微米级别。”

 指向屏幕上的光学透镜剖面图，详细解释了透镜的设计原理和制造工艺：“我们团队攻克了光学透镜加工的一系列难题，保证透镜的表面精度误差不超过0.1微米。” 台下的汉斯代表眉头皱起，低声对同伴说道：“这……如果是真的，他们的光学技术已经不输给我们了。”

 许志远接着讲解：“最后一步是将电路图形刻蚀到晶圆上。这需要高精度的掩膜版和极其稳定的晶圆固定装置。我们自主研发了掩膜版制造技术，并在晶圆刻蚀过程中实现了纳米级误差控制。”

 说到这里时，屏幕切换到一个动态视频，展示了光刻机工作时的运转画面。从光源发射到电路图形被刻蚀到晶圆上，每一个步骤都毫无保留地呈现在众人眼前。

 许志远的讲解条理清晰，数据详实，每一个技术细节都经得起推敲。随着展示的深入，会场中的氛围开始发生微妙的变化。

 支持派代表们的态度已经从最初的期待逐渐转变为震撼。

 “深紫外光源？亚微米级投影精度？如果这些都是真的，那他们的光刻机技术已经不输给我们了！”汉斯某汽车制造企业的代表低声说道。他的同伴点了点头，补充道：“这已经不是简单的技术突破，而是一种全面的超越。”

 瑞士代表同样难掩惊叹：“他们的光学技术居然能做到这种地步？这简直难以置信。我一直以为光刻机是我们西方国家的绝对技术优势。”