第254章 第一枚芯片(第2页)

 一台占地约两米长、两米宽的庞然大物静静立在那里，表面泛着金属的冷光，复杂的结构和精密的零件散发着一种独特的机械美感。

 光刻机的核心部件，包括深紫外光源系统、光学投影系统、以及纳米级精度的步进扫描平台，一切都被他调试到了最佳状态。

 这是一台第一代光刻机，虽然制程还停留在几微米级别，但对于这个时代的国内技术水平而言，这已经是前所未有的突破。

 许志远站在光刻机面前，深吸了一口气，目光中充满了兴奋和期待。他知道，这不仅仅是一台机器，而是一个国家工业科技迈出的第一步。

 “系统，启动光刻机。”许志远语气低沉却坚定，仿佛在宣告一个全新时代的开始。

 随着一声命令，小世界中的智能系统迅速响应，光刻机开始运转。

 首先启动的是深紫外光源系统，一束高强度的193纳米深紫外激光束在光束整形模块中被调整成均匀的矩形光斑。随后，光束通过一系列高精度的光学镜片和反射镜组，被投射到掩模版上。

 掩模版是许志远亲手设计并刻蚀的，图案是一个简单的逻辑电路——这是他为第一片芯片设计的基础模板。光束穿过掩模版后，被精准投影到涂有光刻胶的硅片表面。

 硅片被固定在步进扫描平台上，而平台以纳米级的精确度缓缓移动，将整个图案逐步曝光在硅片表面。

 “光学投影系统运行正常，误差小于0.8微米。”系统的冷静提示音在小世界中回荡。

 许志远盯着屏幕上的参数，嘴角微微上扬。这台光刻机的性能已经超出了他的预期。

 光刻工艺的第一步是将电路图案通过曝光转移到硅片上。许志远从小世界的材料库中取出一片原始硅片，将其涂上一层均匀的光刻胶，放在光刻机的步进扫描平台上。

 “曝光完成，下一步进行显影。”系统提示音响起。

 许志远将曝光后的硅片取下，小心翼翼地放入显影槽中。显影液是他根据配方自行调配的，能够将光刻胶中被曝光的部分溶解，留下未曝光的部分作为掩膜。